ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਈਥਰ/ਪੋਲੀਐਕਰੀਲਿਕ ਐਸਿਡ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬੰਧਨ ਫਿਲਮ

ਖੋਜ ਪਿਛੋਕੜ

ਇੱਕ ਕੁਦਰਤੀ, ਭਰਪੂਰ ਅਤੇ ਨਵਿਆਉਣਯੋਗ ਸਰੋਤ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਨੂੰ ਇਸਦੇ ਗੈਰ-ਪਿਘਲਣ ਅਤੇ ਸੀਮਤ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲਤਾ ਗੁਣਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ ਵਿਹਾਰਕ ਉਪਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਵੱਡੀਆਂ ਚੁਣੌਤੀਆਂ ਦਾ ਸਾਹਮਣਾ ਕਰਨਾ ਪੈਂਦਾ ਹੈ। ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਬਣਤਰ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਕ੍ਰਿਸਟਾਲਿਨਿਟੀ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਘਣਤਾ ਵਾਲੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਇਸ ਨੂੰ ਵਿਗੜਦੇ ਹਨ ਪਰ ਕਬਜ਼ੇ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਪਿਘਲਦੇ ਨਹੀਂ ਹਨ, ਅਤੇ ਪਾਣੀ ਅਤੇ ਜ਼ਿਆਦਾਤਰ ਜੈਵਿਕ ਘੋਲਨ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੇ ਹਨ। ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਡੈਰੀਵੇਟਿਵਜ਼ ਪੋਲੀਮਰ ਚੇਨ ਵਿੱਚ ਐਨਹਾਈਡ੍ਰੋਗਲੂਕੋਜ਼ ਯੂਨਿਟਾਂ 'ਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਿਲ ਸਮੂਹਾਂ ਦੇ ਐਸਟਰੀਫਿਕੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਈਥਰੀਫਿਕੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਪੈਦਾ ਕੀਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਕੁਦਰਤੀ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ ਕੁਝ ਵੱਖਰੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਨਗੇ। ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਦੀ ਈਥਰੀਫਿਕੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ ਈਥਰ ਪੈਦਾ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਮਿਥਾਇਲ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ (MC), ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਥਾਈਲ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ (HEC) ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਪ੍ਰੋਪਾਈਲ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ (HPC), ਜੋ ਭੋਜਨ, ਸ਼ਿੰਗਾਰ, ਫਾਰਮਾਸਿਊਟੀਕਲ ਅਤੇ ਦਵਾਈਆਂ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ। ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ CE ਪੌਲੀਕਾਰਬੋਕਸਾਈਲਿਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਪੌਲੀਫੇਨੌਲ ਨਾਲ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ-ਬੰਧਨ ਵਾਲੇ ਪੋਲੀਮਰ ਬਣਾ ਸਕਦੇ ਹਨ।

ਲੇਅਰ-ਬਾਈ-ਲੇਅਰ ਅਸੈਂਬਲੀ (LBL) ਪੌਲੀਮਰ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਤਰੀਕਾ ਹੈ। ਹੇਠ ਲਿਖੇ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ PAA ਦੇ ਨਾਲ HEC, MC ਅਤੇ HPC ਦੇ ਤਿੰਨ ਵੱਖ-ਵੱਖ CEs ਦੀ LBL ਅਸੈਂਬਲੀ ਦਾ ਵਰਣਨ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਅਸੈਂਬਲੀ ਵਿਵਹਾਰ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ LBL ਅਸੈਂਬਲੀ 'ਤੇ ਬਦਲ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ 'ਤੇ pH ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਜਾਂਚ ਕਰੋ, ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਦੇ ਗਠਨ ਅਤੇ ਘੁਲਣ 'ਤੇ pH ਦੇ ਵੱਖੋ-ਵੱਖਰੇ ਅੰਤਰਾਂ ਦੀ ਜਾਂਚ ਕਰੋ, ਅਤੇ CE/PAA ਦੇ ਪਾਣੀ ਸੋਖਣ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦਾ ਵਿਕਾਸ ਕਰੋ।

ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ ਸਮੱਗਰੀ:

ਪੌਲੀਐਕਰੀਲਿਕ ਐਸਿਡ (PAA, Mw = 450,000)। ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਥਾਈਲਸੈਲੂਲੋਜ਼ (HEC) ਦੇ 2wt.% ਜਲਮਈ ਘੋਲ ਦੀ ਲੇਸ 300 mPa·s ਹੈ, ਅਤੇ ਬਦਲ ਦੀ ਡਿਗਰੀ 2.5 ਹੈ। ਮਿਥਾਈਲਸੈਲੂਲੋਜ਼ (MC, 400 mPa·s ਦੀ ਲੇਸਦਾਰਤਾ ਅਤੇ 1.8 ਦੇ ਬਦਲ ਦੀ ਡਿਗਰੀ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ 2wt.% ਜਲਮਈ ਘੋਲ)। ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਪ੍ਰੋਪਾਈਲ ਸੈਲੂਲੋਜ਼ (HPC, 400 mPa·s ਦੀ ਲੇਸ ਅਤੇ 2.5 ਦੇ ਬਦਲ ਦੀ ਡਿਗਰੀ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ 2wt.% ਜਲਮਈ ਘੋਲ)।

ਫਿਲਮ ਦੀ ਤਿਆਰੀ:

25°C 'ਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ 'ਤੇ ਤਰਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਲੇਅਰ ਅਸੈਂਬਲੀ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ। ਸਲਾਈਡ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦਾ ਇਲਾਜ ਵਿਧੀ ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਹੈ: ਤੇਜ਼ਾਬ ਵਾਲੇ ਘੋਲ (H2SO4/H2O2, 7/3Vol/VOL) ਵਿੱਚ 30 ਮਿੰਟ ਲਈ ਭਿੱਜੋ, ਫਿਰ ਡੀਓਨਾਈਜ਼ਡ ਪਾਣੀ ਨਾਲ ਕਈ ਵਾਰ ਕੁਰਲੀ ਕਰੋ ਜਦੋਂ ਤੱਕ pH ਨਿਰਪੱਖ ਨਹੀਂ ਹੋ ਜਾਂਦਾ, ਅਤੇ ਅੰਤ ਵਿੱਚ ਸ਼ੁੱਧ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਨਾਲ ਸੁੱਕ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। LBL ਅਸੈਂਬਲੀ ਆਟੋਮੈਟਿਕ ਮਸ਼ੀਨਰੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਸਬਸਟਰੇਟ ਨੂੰ ਬਦਲਵੇਂ ਰੂਪ ਵਿੱਚ CE ਘੋਲ (0.2 mg/mL) ਅਤੇ PAA ਘੋਲ (0.2 mg/mL) ਵਿੱਚ ਭਿੱਜਿਆ ਗਿਆ ਸੀ, ਹਰੇਕ ਘੋਲ ਨੂੰ 4 ਮਿੰਟ ਲਈ ਭਿੱਜਿਆ ਗਿਆ ਸੀ। ਢਿੱਲੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਜੁੜੇ ਪੋਲੀਮਰ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਹਰੇਕ ਘੋਲ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਡੀਓਨਾਈਜ਼ਡ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ 1 ਮਿੰਟ ਦੇ ਤਿੰਨ ਕੁਰਲੀ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ। ਅਸੈਂਬਲੀ ਘੋਲ ਦੇ pH ਮੁੱਲ ਅਤੇ ਰਿੰਸਿੰਗ ਘੋਲ ਦੋਵਾਂ ਨੂੰ pH 2.0 ਨਾਲ ਐਡਜਸਟ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ। ਜਿਵੇਂ-ਤਿਆਰ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ (CE/PAA)n ਵਜੋਂ ਦਰਸਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ n ਅਸੈਂਬਲੀ ਚੱਕਰ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ। (HEC/PAA)40, (MC/PAA)30 ਅਤੇ (HPC/PAA)30 ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ।

ਫਿਲਮ ਦੀ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ:

NanoCalc-XR Ocean Optics ਦੇ ਨਾਲ ਨਜ਼ਦੀਕੀ-ਸਧਾਰਨ ਪ੍ਰਤੀਬਿੰਬ ਸਪੈਕਟਰਾ ਨੂੰ ਰਿਕਾਰਡ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਅਤੇ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਅਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਨੂੰ ਮਾਪਿਆ ਗਿਆ। ਬੈਕਗ੍ਰਾਊਂਡ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਖਾਲੀ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੇ ਨਾਲ, ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ ਦੇ FT-IR ਸਪੈਕਟ੍ਰਮ ਨੂੰ ਨਿਕੋਲੇਟ 8700 ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ ਸਪੈਕਟਰੋਮੀਟਰ 'ਤੇ ਇਕੱਠਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।

PAA ਅਤੇ CEs ਵਿਚਕਾਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਪਰਸਪਰ ਪ੍ਰਭਾਵ:

LBL ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ PAA ਦੇ ਨਾਲ HEC, MC ਅਤੇ HPC ਦੀ ਅਸੈਂਬਲੀ। HEC/PAA, MC/PAA ਅਤੇ HPC/PAA ਦਾ ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ ਸਪੈਕਟਰਾ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। PAA ਅਤੇ CES ਦੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​​​IR ਸਿਗਨਲਾਂ ਨੂੰ HEC/PAA, MC/PAA ਅਤੇ HPC/PAA ਦੇ IR ਸਪੈਕਟਰਾ ਵਿੱਚ ਸਪੱਸ਼ਟ ਤੌਰ 'ਤੇ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। FT-IR ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਸਕੋਪੀ PAA ਅਤੇ CES ਵਿਚਕਾਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਜਟਿਲਤਾ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ ਜੋ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਸਮਾਈ ਬੈਂਡਾਂ ਦੀ ਸ਼ਿਫਟ ਦੀ ਨਿਗਰਾਨੀ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। CES ਅਤੇ PAA ਵਿਚਕਾਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬੰਧਨ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ CES ਦੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਿਲ ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ PAA ਦੇ COOH ਸਮੂਹ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਬਣਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਖਿੱਚਣ ਵਾਲੀ ਚੋਟੀ ਲਾਲ ਘੱਟ ਬਾਰੰਬਾਰਤਾ ਦੀ ਦਿਸ਼ਾ ਵਿੱਚ ਬਦਲ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।

ਸ਼ੁੱਧ ਪੀਏਏ ਪਾਊਡਰ ਲਈ 1710 ਸੈਂਟੀਮੀਟਰ -1 ਦੀ ਸਿਖਰ ਦੇਖਿਆ ਗਿਆ ਸੀ। ਜਦੋਂ ਪੌਲੀਐਕਰੀਲਾਮਾਈਡ ਨੂੰ ਵੱਖ-ਵੱਖ CE ਨਾਲ ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ ਇਕੱਠਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ, ਤਾਂ HEC/PAA, MC/PAA ਅਤੇ MPC/PAA ਫਿਲਮਾਂ ਦੀਆਂ ਸਿਖਰਾਂ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 1718 cm-1, 1720 cm-1 ਅਤੇ 1724 cm-1 'ਤੇ ਸਥਿਤ ਸਨ। ਸ਼ੁੱਧ PAA ਪਾਊਡਰ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, HPC/PAA, MC/PAA ਅਤੇ HEC/PAA ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਸਿਖਰ ਲੰਬਾਈ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 14, 10 ਅਤੇ 8 cm−1 ਦੁਆਰਾ ਬਦਲੀ ਗਈ ਹੈ। ਈਥਰ ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ COOH ਵਿਚਕਾਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬੰਧਨ COOH ਸਮੂਹਾਂ ਵਿਚਕਾਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਨੂੰ ਰੋਕਦਾ ਹੈ। PAA ਅਤੇ CE ਵਿਚਕਾਰ ਜਿੰਨੇ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਬਣਦੇ ਹਨ, IR ਸਪੈਕਟਰਾ ਵਿੱਚ CE/PAA ਦੀ ਸਿਖਰ ਤਬਦੀਲੀ ਓਨੀ ਹੀ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। HPC ਕੋਲ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਕੰਪਲੈਕਸੇਸ਼ਨ ਦੀ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਡਿਗਰੀ ਹੈ, PAA ਅਤੇ MC ਮੱਧ ਵਿੱਚ ਹਨ, ਅਤੇ HEC ਸਭ ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ।

PAA ਅਤੇ CEs ਦੀਆਂ ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਫਿਲਮਾਂ ਦਾ ਵਿਕਾਸ ਵਿਵਹਾਰ:

LBL ਅਸੈਂਬਲੀ ਦੇ ਦੌਰਾਨ PAA ਅਤੇ CEs ਦੇ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਵਾਲੇ ਵਿਵਹਾਰ ਦੀ QCM ਅਤੇ ਸਪੈਕਟ੍ਰਲ ਇੰਟਰਫੇਰੋਮੈਟਰੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਜਾਂਚ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ। QCM ਪਹਿਲੇ ਕੁਝ ਅਸੈਂਬਲੀ ਚੱਕਰਾਂ ਦੌਰਾਨ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੀ ਨਿਗਰਾਨੀ ਕਰਨ ਲਈ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਹੈ। ਸਪੈਕਟ੍ਰਲ ਇੰਟਰਫੇਰੋਮੀਟਰ 10 ਚੱਕਰਾਂ ਵਿੱਚ ਉਗਾਈਆਂ ਗਈਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵੇਂ ਹਨ।

HEC/PAA ਫਿਲਮ ਨੇ LBL ਅਸੈਂਬਲੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਇੱਕ ਲੀਨੀਅਰ ਵਾਧਾ ਦਿਖਾਇਆ, ਜਦੋਂ ਕਿ MC/PAA ਅਤੇ HPC/PAA ਫਿਲਮਾਂ ਨੇ ਅਸੈਂਬਲੀ ਦੇ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਪੜਾਵਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਘਾਤਕ ਵਾਧਾ ਦਿਖਾਇਆ ਅਤੇ ਫਿਰ ਇੱਕ ਲੀਨੀਅਰ ਵਾਧੇ ਵਿੱਚ ਬਦਲਿਆ। ਰੇਖਿਕ ਵਿਕਾਸ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ, ਜਟਿਲਤਾ ਦੀ ਡਿਗਰੀ ਜਿੰਨੀ ਉੱਚੀ ਹੋਵੇਗੀ, ਪ੍ਰਤੀ ਅਸੈਂਬਲੀ ਚੱਕਰ ਵਿੱਚ ਮੋਟਾਈ ਦਾ ਵਾਧਾ ਓਨਾ ਹੀ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੋਵੇਗਾ।

ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਿਕਾਸ 'ਤੇ ਹੱਲ pH ਦਾ ਪ੍ਰਭਾਵ:

ਘੋਲ ਦਾ pH ਮੁੱਲ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬੌਂਡਡ ਪੋਲੀਮਰ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਾਧੇ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਇੱਕ ਕਮਜ਼ੋਰ ਪੌਲੀਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, PAA ਨੂੰ ionized ਅਤੇ ਨਕਾਰਾਤਮਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਚਾਰਜ ਕੀਤਾ ਜਾਵੇਗਾ ਕਿਉਂਕਿ ਘੋਲ ਦਾ pH ਵਧਦਾ ਹੈ, ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਐਸੋਸੀਏਸ਼ਨ ਨੂੰ ਰੋਕਦਾ ਹੈ। ਜਦੋਂ PAA ਦੇ ionization ਦੀ ਡਿਗਰੀ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਪੱਧਰ 'ਤੇ ਪਹੁੰਚ ਗਈ, PAA LBL ਵਿੱਚ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਸਵੀਕਾਰ ਕਰਨ ਵਾਲਿਆਂ ਨਾਲ ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਇਕੱਠੇ ਨਹੀਂ ਹੋ ਸਕਿਆ।

ਹੱਲ pH ਦੇ ਵਾਧੇ ਨਾਲ ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਘਟ ਗਈ, ਅਤੇ pH2.5 HPC/PAA ਅਤੇ pH3.0-3.5 HPC/PAA 'ਤੇ ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਅਚਾਨਕ ਘਟ ਗਈ। HPC/PAA ਦਾ ਨਾਜ਼ੁਕ ਬਿੰਦੂ ਲਗਭਗ pH 3.5 ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ HEC/PAA ਦਾ ਲਗਭਗ 3.0 ਹੈ। ਇਸਦਾ ਮਤਲਬ ਹੈ ਕਿ ਜਦੋਂ ਅਸੈਂਬਲੀ ਘੋਲ ਦਾ pH 3.5 ਤੋਂ ਵੱਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ HPC/PAA ਫਿਲਮ ਨਹੀਂ ਬਣ ਸਕਦੀ, ਅਤੇ ਜਦੋਂ ਘੋਲ ਦਾ pH 3.0 ਤੋਂ ਵੱਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ HEC/PAA ਫਿਲਮ ਨਹੀਂ ਬਣ ਸਕਦੀ। HPC/PAA ਝਿੱਲੀ ਦੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡ ਕੰਪਲੈਕਸ ਦੀ ਉੱਚ ਡਿਗਰੀ ਦੇ ਕਾਰਨ, HPC/PAA ਝਿੱਲੀ ਦਾ ਨਾਜ਼ੁਕ pH ਮੁੱਲ HEC/PAA ਝਿੱਲੀ ਨਾਲੋਂ ਵੱਧ ਹੈ। ਲੂਣ-ਮੁਕਤ ਘੋਲ ਵਿੱਚ, HEC/PAA, MC/PAA ਅਤੇ HPC/PAA ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਕੰਪਲੈਕਸਾਂ ਦੇ ਨਾਜ਼ੁਕ pH ਮੁੱਲ ਕ੍ਰਮਵਾਰ ਲਗਭਗ 2.9, 3.2 ਅਤੇ 3.7 ਸਨ। HPC/PAA ਦਾ ਨਾਜ਼ੁਕ pH HEC/PAA ਨਾਲੋਂ ਵੱਧ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ LBL ਝਿੱਲੀ ਦੇ ਨਾਲ ਇਕਸਾਰ ਹੈ।

ਸੀਈ/ਪੀਏਏ ਝਿੱਲੀ ਦਾ ਪਾਣੀ ਸੋਖਣ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ:

CES ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਿਲ ਸਮੂਹਾਂ ਵਿੱਚ ਅਮੀਰ ਹੈ ਤਾਂ ਜੋ ਇਸ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਦੀ ਚੰਗੀ ਸਮਾਈ ਅਤੇ ਪਾਣੀ ਦੀ ਧਾਰਨਾ ਹੋਵੇ। HEC/PAA ਝਿੱਲੀ ਨੂੰ ਇੱਕ ਉਦਾਹਰਨ ਵਜੋਂ ਲੈਂਦੇ ਹੋਏ, ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ-ਬੰਧਨ ਵਾਲੇ CE/PAA ਝਿੱਲੀ ਦੀ ਸੋਖਣ ਸਮਰੱਥਾ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ। ਸਪੈਕਟ੍ਰਲ ਇੰਟਰਫੇਰੋਮੈਟਰੀ ਦੁਆਰਾ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ, ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਵਧਦੀ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਫਿਲਮ ਪਾਣੀ ਨੂੰ ਸੋਖ ਲੈਂਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਨੂੰ 24 ਘੰਟਿਆਂ ਲਈ 25 ਡਿਗਰੀ ਸੈਂਟੀਗਰੇਡ 'ਤੇ ਵਿਵਸਥਿਤ ਨਮੀ ਵਾਲੇ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਦੀ ਸਮਾਈ ਸੰਤੁਲਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਰੱਖਿਆ ਗਿਆ ਸੀ। ਨਮੀ ਨੂੰ ਪੂਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਵੈਕਿਊਮ ਓਵਨ (40 ਡਿਗਰੀ ਸੈਲਸੀਅਸ) ਵਿੱਚ 24 ਘੰਟਿਆਂ ਲਈ ਸੁੱਕਿਆ ਗਿਆ ਸੀ।

ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਨਮੀ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਫਿਲਮ ਮੋਟੀ ਹੋ ​​ਜਾਂਦੀ ਹੈ. 30%-50% ਦੀ ਘੱਟ ਨਮੀ ਵਾਲੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ, ਮੋਟਾਈ ਦਾ ਵਾਧਾ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਹੌਲੀ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਜਦੋਂ ਨਮੀ 50% ਤੋਂ ਵੱਧ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਤਾਂ ਮੋਟਾਈ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਵਧਦੀ ਹੈ। ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ-ਬਾਂਡਡ PVPON/PAA ਝਿੱਲੀ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, HEC/PAA ਝਿੱਲੀ ਵਾਤਾਵਰਨ ਤੋਂ ਵਧੇਰੇ ਪਾਣੀ ਨੂੰ ਜਜ਼ਬ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। 70% (25°C) ਦੀ ਸਾਪੇਖਿਕ ਨਮੀ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ, PVPON/PAA ਫਿਲਮ ਦੀ ਸੰਘਣੀ ਰੇਂਜ ਲਗਭਗ 4% ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ HEC/PAA ਫਿਲਮ ਦੀ ਲਗਭਗ 18% ਹੈ। ਨਤੀਜਿਆਂ ਨੇ ਦਿਖਾਇਆ ਕਿ ਹਾਲਾਂਕਿ HEC/PAA ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਵਿੱਚ OH ਸਮੂਹਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਮਾਤਰਾ ਨੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬਾਂਡਾਂ ਦੇ ਗਠਨ ਵਿੱਚ ਹਿੱਸਾ ਲਿਆ, ਫਿਰ ਵੀ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਨਾਲ ਪਰਸਪਰ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪਾਉਣ ਵਾਲੇ OH ਸਮੂਹਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਕਾਫ਼ੀ ਗਿਣਤੀ ਸੀ। ਇਸਲਈ, HEC/PAA ਸਿਸਟਮ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਨੂੰ ਸੋਖਣ ਦੀਆਂ ਚੰਗੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ।

ਅੰਤ ਵਿੱਚ

(1) CE ਅਤੇ PAA ਦੀ ਸਭ ਤੋਂ ਉੱਚੀ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਬੰਧਨ ਡਿਗਰੀ ਦੇ ਨਾਲ HPC/PAA ਸਿਸਟਮ ਵਿੱਚ ਸਭ ਤੋਂ ਤੇਜ਼ ਵਾਧਾ ਹੈ, MC/PAA ਮੱਧ ਵਿੱਚ ਹੈ, ਅਤੇ HEC/PAA ਸਭ ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ।

(2) HEC/PAA ਫਿਲਮ ਨੇ ਪੂਰੀ ਤਿਆਰੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਇੱਕ ਰੇਖਿਕ ਵਿਕਾਸ ਮੋਡ ਦਿਖਾਇਆ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਦੂਜੀਆਂ ਦੋ ਫਿਲਮਾਂ MC/PAA ਅਤੇ HPC/PAA ਨੇ ਪਹਿਲੇ ਕੁਝ ਚੱਕਰਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਘਾਤਕ ਵਾਧਾ ਦਿਖਾਇਆ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਇੱਕ ਲੀਨੀਅਰ ਵਿਕਾਸ ਮੋਡ ਵਿੱਚ ਬਦਲਿਆ।

(3) CE/PAA ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੀ pH ਹੱਲ 'ਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਨਿਰਭਰਤਾ ਹੈ। ਜਦੋਂ ਘੋਲ pH ਇਸਦੇ ਨਾਜ਼ੁਕ ਬਿੰਦੂ ਤੋਂ ਵੱਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ PAA ਅਤੇ CE ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਇਕੱਠੇ ਨਹੀਂ ਹੋ ਸਕਦੇ। ਇਕੱਠੀ ਕੀਤੀ CE/PAA ਝਿੱਲੀ ਉੱਚ pH ਹੱਲਾਂ ਵਿੱਚ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਸੀ।

(4) ਕਿਉਂਕਿ CE/PAA ਫਿਲਮ OH ਅਤੇ COOH ਨਾਲ ਭਰਪੂਰ ਹੈ, ਗਰਮੀ ਦਾ ਇਲਾਜ ਇਸਨੂੰ ਕ੍ਰਾਸ-ਲਿੰਕ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਕਰਾਸ-ਲਿੰਕਡ CE/PAA ਝਿੱਲੀ ਵਿੱਚ ਚੰਗੀ ਸਥਿਰਤਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਉੱਚ pH ਹੱਲਾਂ ਵਿੱਚ ਅਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।

(5) ਸੀਈ/ਪੀਏਏ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਲਈ ਚੰਗੀ ਸੋਖਣ ਸਮਰੱਥਾ ਹੈ।